Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Telah dibuat lapisan tipis CdS diatas substrat kaca dengan tujuan khusus untuk menambah wawasan terhadap ilmu dan teknologi pembuatan, pengukuran dan analisa lapisan tipis CdS yang dibuat dengan metoda PVD (Physical Vapor Deposition) jenis koevaporasi CdS dan s. dimana diharapkan sustman ini akan bersifat sebagai foto konduktor. Proses deposisi dilakukan pada tekanan ± 5 x 10-6 mbar menggunakan mesin vakum jesin Universal vacuum coater dari Laybold Ag model Universal 450 berkapasitas I 000 liter/s. Lapisan yang berhasil dibuat selanjutnya dilakukan karakterisasi dengan alat spektrofotometer type CARRY 2415 lengkap dengan DS15 data station dan alat difraksi sinar-X merek Philip Analytical Diffractometer PW3710. Pengukuran foto konduktivitasnya dengan bantuan alat ukur Source meter merek Keithley seri 241 O yang mana diukur dalam ruang berlampu terang hingga beberapa detik sesudah lampu tersebut dimatikan. Sampel yang diteliti berukuran 1.5 cm x 1 cm x 5000 A 0 yang dideposisi dengan laju 4 A 0 Is yang selanjutnya dianil dengan variasi temperatur 200°C, 300°C, 400°C, 500°C masing-masing selama 30 menit, yang mana pada sampel tersebut terdapat elektroda Ag pada dua sisi berhadapan sejarak 1 cm yang juga ditempelkan dengan cara evaporasi termal. Hasil spektrofotometer menunjukan bahwa ada kelebihan ketebalan 1 % dari ketebalan yang diprogramkan melalui inti.con. Dari hasil karakterisasi alat difraksi sinar-X menunjukan bahwa lapisan CdS yang terbentuk baik sebelum dianil maupun setelah dianil berstruktur hexagonal deogan preferred orientation pada bidang 002 dengan besar butir semakin tinggi suhu anil semakin besar besar butir yang diperoleh. Dari hasil pengukuran dengan alat ukur source meter menujukan bahwa respon lapisan terhadap cahaya semakin tinggi dengan naiknya suhu anil, yang berarti foto konduktivitasnya semakin baik. dimana pada penelitian ini bahwa lapisan yang dianil pada suhu 500°C menunjukan sifat foto konduktivitas yang terbaik. Hal ini lebih diperjelas dengan hasil hitungan yang diperlihatkan dalam tabel bahwa semakin tinggi suhu anil semakin tinggi pula jumlah pembawa muatan aktif dan mobilitas pembawa muatan. Sumber tegangan yang dipakai dalam penelitian ini bervariasi 5 Volt, 10 Volt, 15 Volt, 20 Volt, dan 25 Volt yang ternyata diplot menjadi grafik terhadap arus adalah berbanding lurus yang berarti menunjukan bahwa tegangan tersebut masih memenuhi hukum ohm."

"Pelapisan TiO2 dengan metode Physical Vapor Deposition PVD pada braket ortodontik dilakukan untuk meningkatkan sifat anti bakteri dan anti korosi braket. Untuk menghasilkan kualitas lapisan yang baik permukaan substrat harus halus dan bersih dari kontaminan. Oleh karena itu elektropoles dilakukan pada braket guna membersihkan permukaan braket dari senyawa oksida yang terbentuk saat sintering dengan mengurangi kekasaran permukaan. Elektropoles dilakukan dengan perbedaan pada temperatur dan waktu proses yaitu 30, 70oC dan 15, 25 menit. Perbedaan kondisi elektropoles ini akan mempengaruhi kekasaran permukaan yang dihasilkan. Atmosfer pada saat pelapisan PVD TiO2 dikontrol menggunakan gas oksigen dan argon dengan perbandingan aliran gas sebesar 10:90 sccm dan 50:50 sccm. Perbedaan aliran gas ini akan mempengaruhi karakteristik lapisan TiO2 yang terbentuk. Setelah elektropoles diperoleh kekasaran braket terendah sebesar 0.74 m dan paling tinggi sebesar 3.16 m. Kualitas lapisan pada substrat dengan kekasaran yang berbeda diukur dari sifat daya lekatnya dengan pengujian microvickers secara kualitatif dan kuantitatif. Hasil yang diperoleh menunjukkan bahwa permukaan substrat dengan kekasaran paling rendah memiliki daya lekat dengan lapisan TiO2 yang lebih baik dibandingkan dengan kekasaran yang tinggi.

---

TiO2 layer was coated by Physical Vapor Deposition PVD on orthodontic bracket to improve its anti bacterial and anti corrosion characteristics. In order to produce a good quality of the coating layer, the substrate had to be smooth and free from any contaminants. The electropolishing method was used to clean bracket rsquo s surface from oxides substances which formed during sintering by reducing its surface roughness. The electropolishing was done the difference in temperature and processing time, such as 30, 70oC and 15, 25 minutes, respectively. Those differences in electropolishing condition wuld affect final surface 39 s roughness. The atmosphere during PVD was controlled using oxygen and argon gases with the flowing rate ratio of 10 90 sccm and 50 50 sccm, and these gases would affect TiO2 coating mechanical properties. After electropolishing, the lowest roughness of 0.74 m and the highest roughness of 3.16 m were obtained after electropolishing. The coating quality on the substrates with different roughnesses was assessed through coating adhesivity on substrate by microvickers quantitatively and qualitatively. The results showed that TiO2 coating layer on the substrate with a lower roughness had better adhesivity rather than on the substrate with higher roughness. "