Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Kemampuan menghadapi cekaman abiotik, termasuk radiasi UV-B menentukan kemampuan kolonisasi tumbuhan invasif Synedrella nodiflora (L.) Gaertn. yang tumbuh di tempat ternaung dan terbuka. Synedrella nodiflora diduga toleran terhadap intensitas UV-B yang relatif tinggi. Peningkatan ekspresi gen-gen penyandi Heat Shock Protein 70 (Hsp70) merupakan salah satu respons pertahanan tumbuhan terhadap cekaman UV-B. Oleh sebab itu, perlu dilakukan penelitian untuk membandingkan tingkat ekspresi gen penyandi Hsp70 di sitoplasma, mitokondria, dan plastida (Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2) pada daun Synedrella nodiflora terhadap kondisi lingkungan dengan intensitas radiasi UV-B yang berbeda. Penelitian dan pengukuran faktor lingkungan dilakukan di area kampus Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam, Universitas Indonesia, Depok. Real-time PCR digunakan untuk kuantifikasi cDNA Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2. Kuantitas cDNA tiap gen dinormalisasi terhadap gen TUB sebagai reference gene. Tingkat ekspresi gen relatif dianalisis dengan metode Pfaffl. Lokasi kontrol, ternaung, dan terbuka secara berturut-turut memiliki rerata intensitas radiasi UV-B sebesar 18,4 ± 0,1, 44,1 ± 0,6, dan 260,1 ± 78,3 mW/m2. Daun S. nodiflora dari lokasi ternaung memiliki tingkat ekspresi gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 yang meningkat 85,54; 2,41; dan 30,58 kali relatif terhadap TUB. Daun dari lokasi terbuka memiliki tingkat ekspresi gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 yang meningkat 2,01, 9,46, dan 2,50 kali relatif terhadap TUB. Tingkat ekspresi Hsp70 dan cpHsc70-2 relatif lebih tinggi pada daun yang dikoleksi dari lokasi ternaung, sedangkan mtHsc70-1 relatif lebih rendah. Sebaliknya, tingkat ekspresi Hsp70 dan cpHsc70-2 relatif lebih rendah padadaun yang dikoleksi dari lokasi terbuka, sedangkan mtHsc70-1 relatif lebih tinggi. Synedrella nodiflora di lokasi terbuka diduga telah teraklimatisasi terhadap kondisi lingkungan dengan suhu, intensitas cahaya, dan intensitas UV-B yang relatif lebih tinggi. Hal tersebut menyebabkan S. nodiflora di lokasi terbuka mengalami peningkatan suhu, intensitas cahaya, dan intensitas UV-B minimum yang dibutuhkan untuk menginduksi peningkatan ekspresi gen Hsp70 dan cpHsc70-2. Gen Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 memiliki pola ekspresi yang berbeda pada kondisi lingkungan tumbuh Synedrella nodiflora, baik kondisi ternaung maupun terbuka (intensitas radiasi UV-B yang berbeda). Tingkat ekspresi Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 diduga juga dipengaruhi oleh faktor lain, di antaranya suhu dan intensitas cahaya.

---

The ability to deal with abiotic stresses, including UV-B radiation determines the colonizing ability of an invasive plant species, Synedrella nodiflora (L.) Gaertn. that grows in shaded and open places. Synedrella nodiflora may possibly tolerant to relatively high UV-B intensity. Increased expression levels of genes encoding Heat Shock Protein 70 (Hsp70) are one of the plant defense responses against UV-B stress. Therefore, the study aimed was to compare expression levels of genes encoding cytosolic, mitochondrial, and plastid Hsp70 (Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2) in Synedrella nodiflora leaves against environmental conditions with different UV-B radiation intensities. Research and measurement of environmental factors were carried out in Faculty of Mathematics and Natural Sciences campus area, Universitas Indonesia, Depok. Real-time PCR was used to quantify Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 cDNA. cDNA quantity of each gene was normalized to TUB gene as reference gene. Relative gene expression levels were analyzed using Pfaffl method. Average UV-B intensity radiation in control, shaded, and open locations were 18,4 ± 0,1, 44,1 ± 0,6, and 260,1 ± 78,3 mW/m2, respectively. Synedrella nodiflora leaves from shaded location had Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 expression levels that increased 85,54; 2,41; and 30,58-fold relative to TUB. Leaves from open location had Hsp70, mtHsc70-1, and cpHsc70-2 expression levels that increased 2,01, 9,46, dan 2,50-fold relative to TUB. Expression levels of Hsp70 dan cpHsc70-2 were relatively higher in leaves that collected from shaded location, while mtHsc70-1 was relatively lower. Inversely, expression levels of Hsp70dan cpHsc70-2 were relatively lower in leaves that collected from open location, while mtHsc70-1 was relatively higher. Synedrella nodiflora in open location is possibly have acclimatized to environmental conditions with relatively higher temperature, light intensity, dan UV-B intensity. This acclimatization caused S. nodiflora in open location experienced an increase in minimum temperature, light intensity, and UV-B intensity required to induce an increase in Hsp70 dan cpHsc70-2 gene expression. The Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 genes have different expression patterns under growth conditions of S. nodiflora, both shaded and open conditions (different UV-B radiation intensities). The expression levels of Hsp70, mtHsc70-1, dan cpHsc70-2 may also influence by another factors, including temperature and light intensity."

"Latar Belakang: Status kebersihan rongga mulut yang buruk ditandai dengan biofilm dalam jumlah banyak. Biofilm terbentuk dari perlekatan bakteri ke permukaan padat dan dengan bakteri lain. Bakteri later colonizers patogen periodontitis di biofilm seperti Treponema denticola bergantung pada early colonizers seperti Veillonella parvula. Protein VtaA dan Msp berperan dalam fungsi perlekatan Veillonella parvula dan Treponema denticola. Akumulasi biofilm dapat menyebabkan periodontitis. Akan tetapi periodontitis tidak umum dibahas pada anak. Tujuan: Penelitian ini bertujuan menganalisis hubungan jumlah Veillonella parvula dan Treponema denticola, serta ekspresi gen VtaA dan Msp spesifik tiap bakteri dari saliva anak terhadap status rongga mulut. Metode: Penelitian ini menggunakan 40 sampel saliva anak yang dikelompokkan berdasarkan kategori OHI-S. Ekstraksi RNA untuk analisis ekspresi gen dan DNA untuk jumlah bakteri target dari sampel menggunakan GeneZol Kit. Konversi RNA menjadi cDNA menggunakan SensiFast cDNA Kit. Ekstrak DNA dan cDNA diuji dengan Real-time PCR. Analisis jumlah bakteri menggunakan kuantifikasi absolut dan tingkat ekspresi gen menggunakan kuantifikasi relatif. Hasil: Tidak ada perbedaan bermakna antara jumlah kedua bakteri maupun tingkat kedua ekspresi gen di antara kategori OHI-S. Jumlah Veillonella parvula cenderung menurun dan Treponema denticola cenderung meningkat seiring memburuknya skor OHI-S. Kesimpulan: Deteksi peningkatan jumlah Veillonella parvula tidak dapat menjadi bioindikator inisiasi penyakit periodontal. Ekspresi gen VtaA dan Msp tidak dapat digunakan sebagai bioindikator pembentukan biofilm dalam jumlah tinggi.

---

Backgrounds: Poor oral hygiene status is marked by large amount of biofilms. Biofilms are made from bacterial adhesion to solid surfaces and to other bacteria. Later colonizers periodontitis pathogenic bacteria in biofilms like Treponema denticola, depend on early colonizers such as Veillonella parvula. VtaA and Msp are proteins that function in adhesion of Veillonella parvula and Treponema denticola. Biofilms accumulation can cause periodontitis. However, periodontitis is not a common discussion on children. Objectives: This research aims to analyze the correlation between the quantity of Veillonella parvula and Treponema denticola, also VtaA and Msp gene expression with oral status from children’s saliva. Methods: This study uses 40 samples of children’s saliva which has been grouped according to OHI-S category. RNA extraction to analyze gene expression and DNA extraction to quantify target bacteria from samples using GeneZol Kit. RNA conversion to cDNA uses SensiFast cDNA Kit. DNA extract and cDNA are tested using Real-time PCR Analysis of bacteria quantity with absolute quantification dan gene expression levels with relative quantification. Results: There is no significant difference between target bacteria quantity also gene expression levels between the OHI-S categories. Veillonella parvula’s quantity tends to decrease and Treponema denticola tends to increase as OHI-S scores worsens. Conclusions: Detection of increasing quantity of Veillonella parvula cannot be used as a bioindicator of periodontal disease initiation. VtaA and Msp gene expression cannot be used as a bioindicator of high rates of biofilm’s formation."

"Sindrom ovarium polikistik (SOPK) merupakan gangguan reproduksi yang disebabkan oleh berbagai faktor endokrin dan metabolisme. Penderita SOPK merupakan wanita usia reproduktif (8—10%) disertai dengan kondisi obesitas (50—80%; IMT≥25). Meski etiologi SOPK belum sepenuhnya diketahui, namun kelainan endokrin seperti abnormalitas rasio kadar LH (luteinizing hormone) dan FSH (follicle stimulating hormone) merupakan penyebab utama terjadinya SOPK. Gen KISS1, TAC3, dan PDYN, diketahui dapat memengaruhi pulsatilitas GnRH (gonadotropin releasing hormone) yang meregulasi sekresi LH dan FSH. Gangguan ekspresi pada ketiga gen ini akan menyebabkan gangguan pada sistem endokrin yang mengarah pada SOPK. Penelitian ini bertujuan untuk mengetahui ekspresi mRNA gen KISS1, TAC3, dan PDYN pada wanita SOPK dan non-SOPK dengan obesitas dan non-obesitas. Penelitian dilakukan pada masing-masing 10 sampel darah perifer yang dibagi ke dalam empat kelompok, yaitu non-SOPK non-obesitas, SOPK non-obesitas, non-SOPK obesitas, dan SOPK obesitas. Ekspresi mRNA dianalisis menggunakan teknik quantitative real time PCR (qPCR) dan dikuantifikasi secara relatif menggunakan metode Livak. Hasil penelitian menunjukkan ekspresi mRNA gen KISS1 dan TAC3 ditemukan lebih tinggi pada wanita SOPK dibandingkan wanita non-SOPK dengan obesitas maupun non-obesitas, sedangkan ekspresi mRNA gen PDYN lebih rendah pada wanita SOPK dibandingkan wanita non-SOPK dengan obesitas maupun non-obesitas. Namun, berdasarkan hasil uji statistik, tidak seluruh pasangan kelompok memiliki perbedaan ekspresi yang signifikan. Meski begitu, hasil dari penelitian ini menunjukkan bahwa ekspresi mRNA gen KISS1, TAC3, dan PDYN pada darah perifer terkait dengan SOPK dan obesitas.

---

Polycystic ovary syndrome (PCOS) is a reproductive disorder caused by complex endocrine and metabolic factors. This syndrome occurs in reproductive age women (8—10%) with obesity (50—80%; BMI≥25). Although its etiology is not fully understood, endocrine disorders such as ratio abnormality of LH (luteinizing hormone) and FSH (follicle stimulating hormone) is the main causes of PCOS. KISS1, TAC3, and PDYN gene expression are known to affect the pulsatility of GnRH (gonadotropin releasing hormone) which regulates LH and FSH secretion. Abnormality of these gene expressions will cause endocrine disruption that leads to PCOS. This study aimed to determine KISS1, TAC3, and PDYN mRNA gene expression levels in PCOS and non-PCOS with obese and non-obese women. The study was conducted on each of 10 peripheral blood samples divided into four group, non-PCOS non-obese, non-PCOS obese, PCOS non-obese, and PCOS obese. The mRNA expression was analyzed using quantitative real time PCR (qPCR) with Livak relative quantification method. This study found that both KISS1 and TAC3 mRNA gene expressions were higher in PCOS than non-PCOS in both obese and non-obese women, while PDYN mRNA gene expression was lower in PCOS than non-PCOS in both obese and non-obese women. However, not all pair of groups had statistically significant differences. Nevertheless, the result of this study suggests that KISS1, TAC3, and PDYN mRNA gene expressions in peripheral blood are related with PCOS and obesity."

"Ekspresi gen sintentik gag HIV-1 subtipe CRF01_AE dalam E. coli BL21 dan E. coli BL21-CP telah dilakukan. Gen gag merupakan salah satu gen pada HIV-1 yang tidak mengalami mutasi secara signifikan sehingga gen tersebut dapat digunakan untuk pengembangan vaksin yang dapat dimanfaatkan dalam jangka waktu yang panjang. Pengembangan vaksin HIV membutuhkan protein Gag untuk digunakan sebagai antigen yang mampu merespon pembentukan antibodi pada hewan uji coba. Protein Gag didapatkan dengan cara melakukan ekspresi gen gag yang telah diklon ke dalam vektor ekspresi pQE-81L, dan ditransformasi ke dalam bakteri E. coli BL21 dan E. coli BL21-CP. Ekspresi dilakukan dengan tiga faktor optimasi yaitu, suhu, konsentrasi isopropyl-β-D-thiogalactopyranoside (IPTG) dan waktu ekspresi setelah induksi dilakukan. Analisis hasil ekspresi dilakukan dengan SDS-PAGE dan menunjukkan tidak ada protein Gag yang dihasilkan pada semua keadaan optimasi yang dilakukan. Kegagalan ekspresi gen gag pada E. coli BL21 dan E. coli BL21-CP disebabkan oleh peristiwa kodon bias, dan pemilihan sel inang ekspresi yang kurang tepat.

---

Expression of gag gene on HIV-1 subtype CRF01_AE in E. coli BL21 and E. coli BL21-CP had been conducted. Gag gene on HIV-1 is one of the genes that can?t be significantly mutated, so it can be utilized for long term vaccines development. HIV vaccine development requires Gag protein as antigen in order to response antibody formation in animal experiment. Gag protein was obtained by gag gene expression that had been cloned into expression vector pQE-81L and transformed into E. coli BL21 and E. coli BL21-CP. Expression of the gag gene as optimized by temperature, isopropyl-β-D-thiogalactopyranoside (IPTG) concentration, and expression time after IPTG induction. The expression was analyzed by SDS-PAGE and it showed no protein produced in all optimization conditions. The failure of gag gene expression in E. coli BL21 and E. coli BL21-CP caused by codon ray and inappropriate host cell."

"Teknologi DNA microarray menghasilkan data ekspresi gen yang dapat digunakan untuk membantu berbagai pemecahan masalah dalam dunia kesehatan. Data ekspresi gen merupakan matriks berukuran besar berisi gen dan kondisi eksperimental yang tak jarang mengandung missing values dan outlier. Data yang mengandung missing values dapat mengganggu dan membatasi analisis. Untuk mengatasinya, metode komputasi dinilai layak untuk imputasi missing values pada data ekspresi gen sebelum dilakukan analisis lanjutan, terlebih untuk data yang memiliki outlier. Oleh karena itu, pada penelitian ini digunakan metode imputasi missing values NCBI-LPCM untuk mengatasi permasalahan missing values pada data ekspresi gen yang memiliki outlier. Metode NCBI-LPCM menggunakan ukuran korelasi LPCM yang dapat menangani keberadaan outlier untuk pembentukan bicluster dan imputasi least square yang merupakan metode imputasi dengan pendekatan lokal. LPCM mengidentifikasi gen-gen yang memiliki pola korelasi similar sehingga menjadi informasi lokal untuk dasar imputasi. Metode ini diterapkan pada data ekspresi gen pasien Leukemia Limfoblastik Akut pada missing rate 5%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, dan 35%. Berdasarkan RMSE dan korelasi Pearson, metode NCBI-LPCM lebih baik jika dibandingkan dengan NCBI-SSSim yang juga dapat menangani keberadaan outlier.

---

DNA microarray technology produces gene expression data that can be used to help solve various problems in healthcare. Gene expression data is a large matrix of genes and experimental conditions that often contains missing values and outliers. Data containing missing values can interfere with and limit analyses. To overcome this, computational methods are considered feasible for imputing missing values in gene expression data before further analysis is carried out, especially for data that has outliers. Therefore, in this study, the NCBI-LPCM missing values imputation method was used to overcome the problem of missing values in gene expression data with outliers. The NCBI-LPCM method uses the LPCM correlation measure which can handle the presence of outliers for bicluster formation and least square imputation which is an imputation method with a local approach. LPCM identifies genes that have similar correlation patterns so that they become local information for the basis of imputation. This method was applied to gene expression data of Acute Lymphoblastic Leukaemia patients at missing rates of 5%, 10%, 15%, 20%, 25%, 30%, and 35%. Based on RMSE and Pearson correlation, the NCBI- LPCM method is better than NCBI-SSSim which can also handle the presence of outliers."

"Penelitian mengenai tingkat ekspresi gen identitas bunga (SEPALLATA) dilakukan pada tiga bagian Hibiscus rosa-sinensis l., yaitu daun, epicalyx, dan kelopak bunga. Penelitian bertujuan untuk mengetahui ekpresi gen SEPALLATA pada epicalyx. Analisis tingkat ekspresi dilakukan secara kualitatif dengan metode two-steps RT-PCR dan divisualisasikan menggunakan elektroforesis agarosa. Metode modified-CTAB digunakan untuk isolasi RNA H. rosa-sinensis dan dilanjutkan dengan pemberian perlakuan DNase untuk menghilangkan gDNA yang masih tersisa. Selanjutnya, RNA diubah menjadi cDNA dengan metode Reverse Transcription dan diamplifikasi dengan metode PCR menggunakan primer spesifik. Hasil penelitian menunjukkan adanya hasil amplifikasi SEPALLATA pada epicalyx menggunakan primer GH7SEP1, namun tidak pada epicalyx menggunakan primer GH1SEP1. Konfirmasi menggunakan primer GH7SEP1 forward dan GH1SEP1 reverse tidak menunjukkan adanya hasil amplifikasi. Hasil sekuensing menunjukkan bahwa hasil amplifikasi yang didapatkan menggunakan baik primer GH1SEP1 maupun GH7SEP1 diduga kuat teramplifikasi dari gen SEPALLATA.

---

Research on floral-identity gene (SEPALLATA) expression level has been done in three parts of Hibiscus rosa-sinensis; they are leaves, epicalyx and calyx. This research was conducted to observe expression of the SEPALLATA gene in epicalyx. The expression level analysis was done qualitatively by the two-steps RT-PCR and visualized using agarose electrophoresis. Hibiscus rosa-sinensis RNA was isolated using the modified-CTAB method and continued by DNase-treatment to eliminate gDNA in mixture. Furthermore, RNA was used to make cDNA using the Reverse Transcription method and amplified using the PCR method by specific primers. The result showed the presence of SEPALLATA amplification in epicalyx using GH7SEP1 primer, yet not on epicalyx using GHSEP1 primer. Confirmation using GH7SEP1 forward primer and GH1SEP1 reverse primer did not show any amplification. Sequencing and alignment results suggested that amplifications using GH1SEP1 or GH7SEP1 were allegedly, of which amplified from SEPALLATA gene."

"Penyakit Gugur Daun Pestalotiopsis (PGDP) mengakibatkan defoliasi daun secara terus menerus hingga 75—90% dan memicu terjadinya penipisan kanopi. Oleh karena itu, diperlukan analisis terkait aspek molekular melalui pengembangan klon baru yang diawali dengan analisis ekspresi gen ketahanan Coronatine Insensitive 1 (COI1). Gen Coronatine Insensitive 1 (COI1) merupakan salah satu gen ketahanan yang berkaitan dengan pensinyalan jasmonat dan diekspresikan ketika tanaman dalam kondisi tercekam secara biotik maupun abiotik. Penelitian terkait ekspresi gen COI1 pada Hevea brasiliensis menyatakan bahwa gen tersebut diekspresikan ketika tanaman karet diberi perlukaan. Namun, analisis terkait ekspresi gen ketahanan COI1 pada H. brasiliensis ketika diinfeksi dengan Pestalotiopsis sp. belum dilakukan. Penelitian yang dilakukan bertujuan untuk menganalisis perbandingan ekspresi gen HbCOI1 dari sampel daun sehat, perlukaan, dan diinfeksi dengan Pestalotiopsis sp. dan melakukan analisis perbandingan antar klon GT 1 yang bersifat rentan dan klon IRR 112 yang bersifat moderat. Infeksi dilakukan pada hari ke-3 dan 6 secara in planta. Tahap setelah inokulasi secara in planta adalah esktraksi RNA untuk memperoleh isolat RNA dari seluruh sampel yang digunakan. Selanjutnya, dilakukan sintesis cDNA untuk analisis qPCR dengan metode Livak. Hasil penelitian belum dapat digunakan untuk menyimpulkan tingkat ekspresi gen HbCOI1 dari sampel daun sehat, perlukaan, dan perlukaan serta infeksi dengan Pestalotiopsis sp. Hal tersebut disebabkan oleh tidak dilakukan perhitungan dan pembentukan kurva standar dan tidak dilakukan elektroforesis untuk mengetahui integritas RNA serta untuk membuktikan bahwa isolat yang diekstraksi adalah isolat RNA H. brasiliensis dan replikasi yang digunakan tidak memenuhi syarat perhitungan Livak. Hasil penelitian hanya berupa dugaan adanya perbedaan ekspresi gen HbCOI1 pada tanaman H. brasiliensis sehat, diberi perlukaan saja, dan diberi perlukaan serta infeksi Pestalotiopsis sp.. Oleh karena itu, perlu dilakukan penpenelitian lebih lanjut untuk memperoleh data korelasi ekspresi gen HbCOI1 dan infeksi Pestalotiopsis yang akurat.

---

Pestalotiopsis Leaf Decay (PGDP) causes continuous leaf defoliation of up to 75-90% and triggers canopy thinning. Therefore, an analysis related to molecular aspects is needed through the development of new clones which begins with analysis of the expression of the Coronatine Insensitive 1 (COI1) resistance gene. The Coronatine Insensitive 1 (COI1) gene is one of the resistance genes related to jasmonate signaling and is expressed when plants are under biotic and abiotic stress conditions. Research related to the expression of the COI1 gene in Hevea brasiliensis states that the gene is expressed when the rubber plant is injured. However, an analysis regarding the expression of the COI1 resistance gene in H. brasiliensis when infected with Pestalotiopsis sp. not done. The aim of the study was to analyze the comparison of HbCOI1 gene expression from samples of healthy, injured, and infected leaves with Pestalotiopsis sp. and carried out a comparative analysis between the GT 1 clone which was susceptible and the IRR 112 clone which was moderate. Infection was carried out on day 3 and 6 by in planta. The stage after in planta inoculation is RNA extraction to obtain RNA isolates from all the samples used. Next, cDNA synthesis was carried out for qPCR analysis using the Livak method. The results of this study could not be used to conclude the expression level of the HbCOI1 gene from samples of healthy leaves, wounds, and injuries as well as infections with Pestalotiopsis sp. This was due to the fact that the primary efficiency curve was not calculated and the formation of the standard curve was not carried out and electrophoresis was not carried out to determine the integrity of the RNA and to prove that the extracted isolate was H. brasiliensis RNA isolate and the replication used did not meet the Livak calculation requirements. The results of this study only suggest that there is a difference in HbCOI1 gene expression in healthy H. brasiliensis plants, only injured, and injured and infected with Pestalotiopsis sp. acccurate."

"ABSTRAKProses pengelasan merupakan salah satu sumber sinar UV buatan manusia Pemaparan radiasi sinar UV pada pekerja las bila tidak dikendalikan/dibatasi dapat menimbulkan efek kesehatan yang merugikan. Akibat dari sinar UV antara lain terhadap mata, yang dapat menyebabkan peradangan selaput mata, selaput bening, dan peradangan kelopak mata, biasa disebut "welder's flash" atau "arc eye".Tujuan penelitian ini adalah untuk mengetahui tingkat radiasi sinar UV dan beberapa faktor yang berhubungan dengan keluhan mata "welder's flash". Faktor faktor yang diteliti adalah tingkat radiasi efektif alat las, lingkungan kerja, lama pemaparan, dan pemakaian alat pelindung diri. Penelitian ini bersifat deskriptif analitik dengan pendekafan Crossectional, yang dilakukan terhadap 98 pekerja las dari 2 sentry industri kecil yaitu Perkampungan Industri Kecil (PIK) dan Santa. Usaha/ndustri Kecil (MK) Pulogadung Jaktim. Dari hasil penelitian diketahui tingkat radiasi efektif berkisar antara 120 - 4580 μW/cm2 . Tingkat radiasi terbanyak antara 300-3000 μW/cm2 , yang berdasarkan NAB ACGIH exposure level hanya boleh 1-10 detik tanpa alat pelindung diri. Prevalensi keluhan mata welder's flash (tiga bulan terakhir) adalah 62,2%. Dengan jumlah keluhan berkisar 1 sampai 3 kali. Jenis proses las terbukti berhubungan dengan tingkat radiasi efektif (p<0,05). Kuat arcs (amper) berhubungan dengan tingkat radiasi efektif dengan pola hubungan linier positif (r=0,44, R2=0,21, p<0,05). Diameter kawat las berhubungan dengan tingkat radiasi dengan pola hubungan linier positif (r=0,53, R2 =0,27, p<0,05). Lokasi kerja (indoor,outdoor) terbukti berhubungan dengan tingkat radiasi efektif (F=7,25, p<0,05). Cat dinding tidak terbukti berhubungan dengan radiasi efektif (P=0,61, p> 0,05). Jarak dinding dengan alat las tidak terbukti berhubungan dengan radiasi efektif (t=-0,75,p>0,05). Tingkat radiasi efektif berhubungan dengan keluhan mata (X2=11,54 p<0,05). Pemakaian APD tidak baik ada 40,8%. Pemakaian APD terbukti berhubungan dengan keluhan mata (X2=4,80,p<0,25). Lama pemaparan berkisar antara 90-400 menit perhari dan terbukti berhubungan dengan keluhan mata (X2=1,92, p< 0,25). Model regresi linier ganda radiasi efektif sbb : Y = 246,87-2,94(amper)-293,47(kawat)+560, 66(proses)+77,62(lokasi kerj a)+12,52(amperxpros)+5,56(amperx kawat), 0,-47,93, R2=0,86, Re .= 0,85). Model regresi logistic keluhan mata sbb : Logit p(x) = -1,9647+2,21(T_RAD)+1,16(APD)+0,46(L EXPOS) dengan (X2= 18,09, p< 0,05). Nilai Odds Ratio (95% Confident Interval) tingkat radiasi = 9,1 (2,16-38,32), pemakaian APD = 3,2(1,20-8,51), lama pemaparan =1,6 (0,59-18,98). Melihat keadaan tersebut di atas, maka perlu diadakan upaya pelayanan kesehatan dan keselamatan kerja, serta perlu upaya pengawasan dan pembinaan K3 di industri kecil las.

---

ABSTRACT

Welding process is a source of UV radiation created by human made. Exposure to UV radiation from the welding arc can result a serious health problems to the welder, and impact of UV ray on the eyes is inflammatory of conjungtivita, cornea and eyelid, also known as "welder's flash" or "arc eye".

The objectives of this research were to identify the level of UV radiation and several factors related welder's flash eye complaints. Several factors in research of this study were the level of effective irradiance (eflr), welding process, the current levels used (ampere), welding rod diameters, working station, length of exposures, and the use of personal protective equipment (PPE). The research was descriptive analysis with crossectional approach, which was conducted to 98 welders in 2 centers of small scale welding industry called Perkampuagan Industri Kecil (PIK) and Sentra Usaha Industri Kecil (SUM) Pulogadung Jakarta Timur.

The results of this research showed that the level of effective irradiance were arround 120 - 4580 µW/cm2. Mostly the level of ef.irr were between 300 -3000 µW/crn2, based on TLV ACGH exposure level allow only 1-10 second without PPE.

The prevalence of welder's flash eye complaints (for late 3 month) was 62,2% with amount of frequency around 1 - 3 times.

There was significant association between the type of welding process and the level of effective irradiance (p<0,05). The current levels used (ampere) was proved significant association with the eff.lrr, by the type of relation was liner positive (r 0,44, R2=0.36,pcz0.05), and also was Welding rod diameters with efIR, by the type of relation was linier positive (r 0.53,R2=0,27,p<0.05). Places of working station (indoor/semi, outdoors) were proved significant association with level of efIrr (F=7.25,p<0.05). There was no significant association between wall painting and e£Irr. (F=0.61,p?0.05), and also no significant association between distance of wall and welding equipment with e£Lr. (t=0.75,p>0.05). From 98 of welders , there were 40.8% bad uses for PPE. Using PPE was proved significant association with the welder's flash eye complaints (X2=4.80,p<0.25)_ Length of exposure were between 90-400 minutes per days and it's proved significant association with welder's flash eye complaints.(X2=2.14,p<0.25).

Using multiple linear regression analysis, the fit model of eflrr prediction was Y=246.87-2.94(amp er)-93.47(kawat)+5 60.66(proses)+77.62(lokasi kerj a)+12.5 2 (amperxproses)+5.56(amperxkawat), (r'193,R2=0.86, Ra=0.85). Using multiple logistic regression, the fit model of welder's flash eye complaints prediction was ' : Logit p(x) = -1.9647+2.21(level of e£Tr) +1.16(PPE) + 0.46(length of exposure) with (X2=18.09, p<0.05). Value of Odds Ratio(95% Confident Interval) level of efective irradiance = 9.1(2.16-38.32), using PPE = 3.2(1.20-8.51), length of exposure = 1.6(0.59-18.98).

By looking for the reasons above, it is important to conduct the occupational health services, and necessary to control and establish safety practices in welding small scale industry."

"Latar belakang: Pajanan MEK dan sinar Ultraviolet dibagian Cementing (pengeleman) dapat mengganggu kesebatan, khususnya kesehatan mata pekelja. Jumlab kasus Konjungtivitis di klinik perusabaan yang selalu masuk !islam sepulub penyakit tetbanyak, sangat meumlk unlak diteliti lebih jauh, apakab kasus konjungtivitis yang terjadi di Perusahaan P sebagai akibat pekerjaan atau bukan sebagai akibat pekerjaan.Merode: Menggunaken metude studi pre dan post, dimana dilakukan intervensi dengan menggunakan chemical goggles. Semua pekerja dibagian Cementing (pengeleman) sejumlan 44 orang yang terpajan uap MEK drul sinar Ultraviolet diikutsertakan dalam penelitian ini. Pengumpulan data dilakukan dengan wawancara, pengisian kuesioner dan informed oleh pekelja dan pemeriksan fisik dan status kesehatan mata oleh dokter pemeriksa (bukan peneliti). Pada analisis data dinilai apakeh goggles dapat menurunkan jumlab kasus Konjungtivitis AkibatKerja.Hasil: Jumlab kasus Konjungtivitis Akibat Kerja sebelum penmkaian goggles 59.1% drul pada saat pentakaian goggles 56.8%. Penggonaan goggles pada penelitian ini menjadi kurang efektif disebabkan ketidakdisiplinan responden (68.2%) melepaskan goggles pada waktu bekerja. Ketidakdisiplinan disebabkan karena tingkat pendidikan responden terbesar tarnat SD-SMP sehingga kesadaran akan kesebatan kurang dan juga ketidaknyamanan (70.4%) sehingga responden sering melepaskan gogglesnya. Ketidaknyamanan didnkung dengan suhu lingkangan yang tinggi. Secara statistik tidak ditemukan hubungan yang barmakua (p> 0.05) antam faktor resiko untuk variabel umur, masa kerja, tinggl mata saat duduk, pendidikan dan kesehatan mata ( tes Schirmer) dengan terjadinya Konjungtivitis akibat kerja. Dari analisis uji Me Nemar diperoleb basil dimana tidak ada perbedaan jumlah kasus konjungtivitis sebalum dan setelab penggonaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan uap Metil Etil Keton drul sinar Ultraviolet.Kesimpulan: tidak terdapat perbedaan jumlab kesus konjungtivitis akibat kelja sebelum dan setelab penggunaan chemical goggles pada peke!ja yang terpajan palarut organik Metil Etil Keton dan sinar Ultraviolet dikarenakan ketidakdisiplinan di lingkungan kerja yang panas.

---

Background: exposure to MEK and UV mys at cementing division may cause various health problem, especially to the eyes of workers. It is very interesting subject to be studied that the incidence of conjunctivitis in company clinic always be among the most top ten diseases. Have the conjunctivitis occurred because of their job or not?Methods: study was conducted by pre and post design in which post study, respondents were interfered by using chemical goggle. Forty four workers who exposed to MEK and UV miss at cementing division plant 5 were included in tills study. Data was collected by interviewing, questionnaire, physical examination and eyes examination. Analyses of the data had done to assess whether the goggle could reduce the incident of occupation.al conjunctivitis.Results: Not having worn the goggle, the incidence of conjunctivitis among respondents was 59.1 %. Having worn the goggle the incidence of conjunctivitis among respondents was 56.&%. One of the reason was that respondents had not been discipline to wear the goggle. It was happened because most of respondents had have low educational level (elementary and junior high school) that influence to their health awareness. Respondents were also often to release the goggles {70.4%) because the use of goggles had been not convenient. That inconvenient could be result in the temperature so it is necessary to improve working environment. There was no significant relationship (p> 0.05) between risk factors for the variable of age, length of work, height level of the eyes when sitting, education level and health condition of the eyes (shimmer test) with occupational conjunctivitis. Using Me Nemar 1est obtained that there was no significant differences between pre and post the use of chemical goggle on workers who exposed to MEK and UV rays.Conclusions: This study couldn't prove the hypothesis that there had been differences on incideoce of occupational conjunctivitis between pre and post the use of chemical goggle on workers who had exposed to MEK and UV rays."

"Tukang las pada sektor informal mempunyai risiko photokeratitis karena pajanan terhadap bahaya radiasi sinar UV dengan intensitas cukup tinggi. Salah satu pusat industri pengelasan informal yaitu di daerah sepanjang Jalan Bogor, Bandung. Besarnya intensitas radiasi sinar UV dan terjadinya keluhan subjektif photokeratitis dipengaruhi oleh beberapa faktor. Survei ini bertujuan untuk melihat kejadian keluhan subjektif photokeratitis dan besarnya intensitas radiasi UV yang memajan tukang las serta faktor-faktor yang mempengaruhinya. Variabel yang diteliti diantaranya faktor lingkungan (kuat arus pengelasan, diameter kawat las, lokasi pengelasan) dan faktor pekerja (usia, jarak sumber pengelasan, lama pajanan, dan penggunaan APD). Keluhan subjektif photokeratitis diukur menggunakan kuesioner dan wawancara terstruktur sedangkan besarnya intensitas radiasi sinar UV yang memajan tukang las diukur menggunakan radiometer UV-B . Hasil survei menunjukkan prevalensi keluhan subjektif photokeratitis adalah 73,3% dan terdapat hubungan antara intensitas radiasi sinar UV dengan kejadian keluhan subjektif photokeratitis. Kuat arus, diameter kawat las, dan lokasi pengelasan sebagai faktor yang berhubungan dengan intensitas radiasi sinar UV sedangkan lama pajanan dan penggunaan APD sebagai faktor yang berhubungan terhadap keluhan subjektif photokeratitis.

---

Welders in the informal sector have photokeratitis risk because of UV radiation exposured that contain high intensity. The high of UV radiation intensity and the incidence of subjective complaints of photokeratitis influenced by some factors. The purpose of this survey to see the incidence of photokeratitis subjective complaints, the magnitude of UV radiation that exposes the workers and factors that influence it. Variables examined includes the environmental factors ( electric current welding, diameter of welding wire, and location of welding) and labor factor (age, distance of the welding source, length of exposure, use of PPE). Self administered questionnaire and structured interviews based on subjective symptom of photokeratitis were used to assess photokeratitis subjective complaints and radiometer UV-B was used to measure the magnitude of UV radiation that exposes the workers. The analytical result showed the prevalence of photokeratitis subjective complaints was 73,3% and it was related to the intensity of UV radiation. Electric current welding, diameter of welding wire, and location of welding as factors that related to the magnitude of UV radiation and length of exposure and use of PPE as factors that related to photokeratitis subjective complaints."