Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"Maskless photolithography merupakan salah satu varian teknologi litografi dengan proses pemolaan pada substrat seperti wafer semikonduktor yang dilakukan tanpa mask. Terdapat berbagai jenis maskless photolithography, dengan salah satunya menggunakan laser sebagai basisnya. Pada riset ini, doping tipe-P pada semikonduktor silikon tipe-N dengan menggunakan metode maskless photolithography berbasis laser diteliti secara komprehensif. Selain itu, kecepatan, daya, dan frekuensi juga ditinjau agar parameter laser yang dapat digunakan untuk proses doping tipe-P pada semikonduktor silikon tipe-N dapat diketahui. Pada akhir penelitian ini, disimpulkan parameter kecepatan, daya, dan frekuensi untuk pembukaan diffusion window wafer silicon on insulator (SOI) untuk doping serta doping tipe-P di semikonduktor silikon tipe-N ialah 300 – 2.700 mm/s, 15 – 27 W, dan 80 kHz serta 300 mm/s, 28,5 W, dan 80 kHz.

---

Maskless photolithography is a variant of lithography technology where the patterning process on a substrate such as a semiconductor wafer is carried out without a mask. There are various types of maskless photolithography, one of which uses a laser as its basis. In this research, P-type doping on N-type silicon semiconductors by using a laser-based maskless photolithography method is comprehensively explored. In addition, speed, power and frequency are also assessed so that the laser parameters that can be used for the P-type doping process on N-type silicon semiconductors can be identified. At the end of this research, it is concluded that the speed, power and frequency parameters for opening the diffusion window of silicon wafer on insulator (SOI) for doping and P-type doping on N-type silicon semiconductors are 300 – 2,700 mm/s, 15 – 27 W, and 80 kHz as well as 300 mm/s, 28.5 W, and 80 kHz."

"Biomachining merupakan proses alternatif fabrikasi mikro yang saat ini masih dalam tahap penelitian.Beberapa keunggulan dari biomachining yaitu low cost, energi yang efisien, menghindari thermal damage dan ramah lingkungan. Dalam penelitian kali ini penulis akan melakukan pengujian biomachining dengan menggunakan material nikel. Hasil yang akan diamati ialah bentuk profil permukaan hasil biomachining serta nilai MRR dan SMRR. Bentuk Profil tersebut berupa plot kontur, tingkat kedalaman permukaan dan juga tingkat roughness dari hasil permukaan yang dihasilkan. Pengujian dilakukan dengan 3 interval waktu yaitu 6, 12, dan 24 jam. Hasil kontur didapatkan dari plot data pengukuran menggunakan mesin SURFCOM. Hasil surface roughness juga dilakukan dengan menggunakan mesin SURFCOM. Hasil didapat bahwa terdapat tren kenaikan tingkat ruoghness walaupun tidak signifikan seiring dengan naiknya waktu biomachining. Semua nilai surface roughness pada waktu permesinan 6, 12 dan 24 jam pada biomachining nikel berada dibawah 1 μm. Tingkat kedalaman permukaan hasil biomachining bertambah hingga dua kali lipat seiring bertambahnya waktu pada rentang waktu pengujian 6, 12 dan 24 jam. Nilai MRR dan SMRR dari biomachining nikel cenderung mengalami peningkatan dalam interval waktu permesinan 6, 12 dan 24 jam. Hasil dari pengujian juga diambil gambarnya menggunakan mikroskop digital dinolite dan juga Scanning Electron Microscope (SEM) sebagai ukuran data kualitatif.

---

Biomachining an alternative micro fabrication process which is currently still in the research phase . Some of the advantages of biomachining are low cost, energy efficient , avoiding thermal damage and environmentally friendly. In the present study the authors will test biomachining using nickel material . The results will be observed are the shape of the surface profile result form biomachining results and the value of MRR and SMRR. The profile shape in the form of contour plots , surface depth and also the level of surface roughness of the results. Testing is done with 3 time intervals which are 6 , 12 , and 24 hours. The results obtained from the contour plot measurement data using SURFCOM machine. The results of surface roughness is also done using SURFCOM machine. The results obtained that there is an upward trend , although not significant, ruoghness levels along with rising biomachining time. All values of surface roughness on the machining time of 6 , 12 and 24 hours on biomachining nickel is below 1 μm. Surface depth biomachining results increased up todouble with increasing time in the period of testing 6 , 12 and 24 hours. MRR and SMRR value of biomachining nickel tends to increase in a intervals of biomachining 6 , 12 and 24 hours. The results of the test also were photographed using a digital microscope dinolite and Scanning Electron Microscope ( SEM ) as a measure of qualitative data."

"Ilmu pengetahuan dan teknologi mengalami perkembangan dari tahun ke tahun, salah satunya adalah teknik fabrikasi. Saat ini, teknik fabrikasi telah mencapai skala mikro dan terus dilakukan pengembangan. Adanya dampak negatif dari penggunaan teknik mikrofabrikasi konvensional, baik pada benda kerja yang digunakan, maupun untuk lingkungan mendorong para peneliti untuk melakukan penelitian lebih jauh mengenai konsep green manufacturing. Teknik alternatif yang saat ini sedang dikembangkan adalah biomachining, yaitu proses permesinan yang dilakukan dengan memanfaatkan makhluk hidup sebagai media cutting tool. Dalam hal ini, salah satunya adalah bakteri Acidithiobacillus ferrooxidans. Pada penelitian sebelumnya, telah dilakukan karakterisasi terhadap profil rekayasa microneedle yang terbentuk melalui proses biomachining. Optimalisasi temperatur proses dengan rentang 300C - 350C dilakukan untuk menyesuaikan dengan kondisi temperatur lingkungan habitat bakteri yang digunakan. Penelitian ini dilakukan untuk mengetahui seberapa besar diameter rekayasa microneedle menggunakan material nikel yang dapat dicapai dengan parameter waktu yang berbeda. Pola yang digunakan sebesar 300 μm melalui photolithography menghasilkan diameter rata-rata sebesar 200 μm setelah proses biomachining. Data yang didapatkan dari proses biomachining yang dilakukan berupa perbandingan profil permukaan antarparameter, dimana berdasarkan nilai variansi diketahui tidak terjadi perbedaan yang signifikan terhadap kedalaman pemakanan pada proses biomachining selama 24 jam dan 48 jam. Oleh sebab itu, perlu diadakan kajian lebih jauh mengenai hubungan profil permukaan terhadap waktu proses, sehingga dapat dihasilkan keseragamanan hasil pada setiap penelitian yang dilakukan.

---

Science and technology have evolved over the years, one of them is a fabrication technique. Currently, fabrication techniques have achieved micro scale and continue to develop. The negative impacts of conventional microfabrication techniques on the workpiece being used and environment, encourage researchers to create further research on the concept of green manufacturing. Alternative techniques are currently being developed is biomachining, the machining process is done by microbacteria organisms as cutting tools. In this case, one of them is Acidithiobacillus ferrooxidans. In previous studies, it has been done characterization of engineering profile microneedle formed through a process biomachining. Optimization of the process temperature range of 30°C – 35°C to adjust to ambient temperature conditions habitat bacteria used. This study was conducted to determine how large diameter microneedle using nickel material that can be achieved with different time parameters. Pattern used is 300 μm by photolithography and produce an average diameter of 200 μm after biomachining process. Data were obtained from biomachining process was done are presenting in the form of comparison of surface profile from each parameters, which is based on the variance values are not known there is a significant difference in the depth of biomachining result for 24 hours and 48 hours. Therefore, should be further studies related surface profile and processing time, so it can produce uniformly result in any research."

"ABSTRAKMaskless photolithography menggunakan proyektor DLP merupakanproses yang mudah dan sederhana, namun durasi pemaparan jika hanyamenggunakan cahaya tampak memakan waktu cukup lama. Inovasi yang diajukanadalah pencahayaan hibrida antara sinar tampak dan sinar UV, dengan tujuanmempersingkat durasi pemaparan. Dalam penelitian ini akan dibahas tentangpengaruh pemaparan secara hibrida, yaitu penambahan cahaya UV pada pemaparandengan DLP, terhadap waktu yang dibutuhkan untuk proses pemaparan. ProyektorDLP memiliki sebuah chip DMD yang fungsinya memantulkan cahaya secara pixel,maka DLP dapat digunakan sebagai alat maskless photolithography. Jikagelombang cahaya semakin kecil, maka frekuensi semakin besar, sedangkan energiberbanding lurus dengan frekuensi. Maka itu dibutuhkan gelombang cahaya yangkecil, agar intensitas yang masuk lebih banyak dan mempersingkat waktu.Pemaparan hibrida dilakukan dengan menggabungan cahaya sinar UV dari luarproyektor DLP. Dalam penelitian ini didapatkan rasio antara sumber hibrida dantotal durasi pemaparan sebesar 1:15. Hasil yang didapat dengan metode tersebutdapat mempercepat proses pemaparan sekitar 60%, dibandingkan dengan cahayatampak saja.

---

ABSTRACTMaskless Photolithography using DLP projector is simple and easy, butwith only visible light as its source, the exposure process takes quite some time.This research purposed hybrid lighting from visible light and UV light with the aimof shortening the exposure time. This research will explain about how the DLPworks to provide maskless photolithography and the effect of UV light addition tothe exposure time. DLP projector has a chip, called DMD, to reflect light from thesource in pixel form, therefore, DLP can be used for maskless photolithography.The shorter the wavelength of light, the higher the frequence of that light, andenergy is directly proportional to frequency. Thats why maskless photolithographyneeds light with short wavelength. This hybrid light system has been done withcombining two light sources which are visible light in the DLP projector and addingUV light from the outside. This hybrid exposure. In this research, the ratio betweenhybrid lighting and total exposure time is 1:15. The result that we get from thismethod saves around 60% of time that was consumed with visible light exposure."

"Pengembangan metode fotolitografi dengan metode UV LED telah berkembang secara massif dalam satu dekade ini. Teknologi ini telah sangat dikenal untuk melakukan pembuatan pola dari suatu photo-mask yang selanjutnya akan ditransfer ke sebuah spesimen atau substrat dengan cara pencahayaan memakai sinar UV LED. Saat ini, teknologi fotolitografi telah dikembangkan secara lebih masif lagi untuk melakukan fabrikasi sebuah kanal mikro pada perangkat mikrofluidik. Untuk melakukan fabrikasi yang optimal pada sebuah kanal mikro yang terwujud dari desain photo-mask, maka parameter terbaik dibutuhkan untuk membuat kanal mikro yang sempurna. Pada bagian akhir riset ini, kami mendefinisikan karakteristik performa fotolitografi untuk parameterparameter yang telah ditetapkan.

---

The photolithography with UV LED has been greatly developed since the last decade. This technology is widely known to create a pattern from a photo-mask to the substrate with exposing the UV LED to the targeted specimen. In the recent years, this technology has been massively used to create a pattern of micro-channel on microfluidic devices. In order to fabricate such an optimum desired micro channel design from the mold or mask, a finest parameter is demanded to create a faultless microfluidic channel. At the end of the research, we define photolithography characteristics to perform for a predetermined parameter."

"ABSTRACT

Recently, the Indonesian researchers have anticipated the research on photonic devices especially on semiconductor laser. According to the anticipation above, the scope of this research is on photonic devices particularly on design and performance fabrication of 1.55 um GaInAsPfInP semiconductor laser using intrinsic single-mode layers.

The semiconductor laser was designed using intrinsic single-mode layers that consist of 4 (four) layers i.e., 2 (two) waveguiding layers with 1,15 p.m, AMB (Anti Melt Back) layer with 1.3 pm, and active layer with 1.55 pm. The layers were growth by designing 0.17 pm waveguiding layer thickness, 0.1 pm active layer- and AMB layer thickness, respectively. The performance optimizing were on optical confinement factor of the single-mode layers and threshold current.

The design and simulation results that threshold current of 702,5 mA and the optical confinement factor of 0.801 can be achieved. In addition, the optimum performance was obtained with thicker AMB layer, thicker active layer, and thinner wave-guiding layers.

---

ABSTRAKPara peneliti di Indonesia hingga saat ini telah mengantisipasi penelitian di bidang devais fotonik terutama diode laser semikonduktor. Penelitian pada tesis ini di bidang devais fotonik diutamakan pada rancang bangun dan simulasi unjuk kerja dari diode laser semikonduktor pada panjang gelombang 1,55 um dengan bahan GalnAs-PIInP menggunakan lapisan mode tunggal intrinsik.Pada rancang bangun dirancang suatu diode laser semikonduktor dengan lapisan mode tunggal yang terdiri dari empat buah lapisan GaInAsP masing-masing 2 buah lapisan pandu gelombang dengan panjang gelombang 1,15 µm, lapisan aktif dengan 1,55 gm, dan lapisan anti cair ulang (ACU) dengan 1.3 µm. Untuk penumbuhan dipilih lapisan pandu gelombang setebal 0,17 gm, lapisan aktif setebal 0,1 gm dan lapisan ACU setebal 0,1 gm. Dalam perancangan, parameter faktor perangkap cahaya dari lapisan mode tunggal dan besamya arus ambang memegang peranan penting untuk mengoptimalkan unjuk kerja.Hasil rancang bangun dan simulasi memperlihatkan bahwa unjuk kerja perhitungan dengan arus ambang sebesar 702,5 mA dan faktor perangkap cahaya lapisan mode tunggal sebesar 0,801 dapat dicapai. Selain itu optimalisasi unjuk kerja dapat diperoleh dengan cara mempertebal lapisan ACU, membuat lapisan aktif tidak tipis dan lapisan pandu gelombang tidak tebal."

"ABSTRACTObservation of fluorescence decay signal of condensed-state molecular samples in the time domain has proved very useful for its identification and analysis. In order to overcome the noise problem in the generally weak fluorescence signals a double-gated boxcar integrator has been designed and incorporated into a spectrometer. The design concept and the working principle of this spectrometer is presented along with detailed description of its subsystems. Performance of this spectrometer has been tested with well-known sample (rhodamine 6G) and the results are duely analyzed. Application of this spectrometer to the measurement of fluorescence spectrum and mean life time of an E. Cali bacteria sample is also described in this work."

"An experiment demonstrating the principle of mode recognition has been performed. In the experiment, a He-Ne laser with phase synchronized TEMo1 mode is used. This laser has two stable (bistable) states corresponding to be emission of a right- and left- hand helical waves. Injection of light of one state can switch the laser emission to this state. A hologram is used to convert an image to the state of the laser and in turn irradiation of the image into the hologram produces radiation corresponding to the state. Injection of this radiation into a second laser causes the laser switch to the respective state and remain in that state. A second hologram convert the laser states into two images and using the second hologram, the two images can be recognized, distinguished and stored."

"ABSTRAKA compact, simple and low-cost transversely excited atmospheric (TEA) pressure ultraviolet nitrogen laser {337 nm) has been designed and constructed employing the conventional Blumlein circuit. The measured energy of the output pulse of 337 nm is around 80 -J at 25 kV of charging voltage and l atm operating gas pressure. The beam divergence is found to be 7.7 mrad horizontally and 1.5 mrad vertically. The energy output decreases slightly with increasing gas pressure and gas flow rate, while the beam divergence is relatively stable with respect to the same operating parameters."