Hasil Pencarian  ::  Simpan CSV :: Kembali

"ABSTRAKTiN material yang popular sebagai protective coating pada tools karena mempunyai hardness sekitar 2200 VHN. Pelapisannya pada Stainless steel kami lakukan dengan metoda sputtering reaktif dimana selain gas Argon sebagai gas sputter juga diniasukkan gas Nitrogen yang diharapkan bereaksi Nitridasi dengan atom atom tersputter Titanium menjadi Titanium Nitrida pada substrat yang dipanaskan. Pada penelitian tahap kedua ini dibuat beberapa sampel Stainless Steel dilapisi lapisan tipis TiN Titanium Nitrida secara sputtering reaktitf dengan menggunakan modifikasi pada Universal Coating Machine Leybold Haeraus UNIVEX 300. Dengan menggunakan modifikasi geometris lingkungan terbatas dan penyempumaan sistim pemanasan sampel dihasilkan beberapa sampel yang baik. Secara umum peningkatan kekerasan melebih 200persen max. 669persen pada Stainless Steel; yang mana jauh lebih baik dari hasil penelitian Tahap I yang hanya menghasilkan peningkatan maksimum 95persen. Demikian pula hasil-hasil ini jauh lebih reprodusibel dibandingkan dengan hasil penelitian Tahap I hampir semua sampel jadi. Karakterisasipun telah bertambah dengan XRD dengan hasil yang memuaskan. Sekalipun demikian dijumpai kendala-kendala baru yang semakin menantang: 1 Daya lekat beberapa sampel tidak baik mengelupas. 2. Pemanasan hanya mencapai 300 C dan berefek samping kerusakan beberapa komponen penting sistim vakum. 3. Flowmeter gas kurang peka kalanya. Ini semua akan diupayakan jalan pemecahannya pada penelitian Tahap III yang akan di titik beratkan pada penyempumaan teknik fabrikasi dan solusi kendala kendala tersebut. Demikian pula akan ditambahkan karakterisasi dengan SEM."

"Lapisan tipis Keramik Alumina pada substrat Aluminium Alloy dibuat dengan metoda pelapisan Sputtering RF Magnetron. Pelapisan dilakukan pada tekanan dasar sistem 1.7 - 3.3 x 10-5 torr dan tekanan gas Argon saat pelapisan berlangsung dipertahankan sekitar 15 mtorr. Komposisi Atomik Substrat sebelum pelapisan diuji dengan SEM/EDAX hasilnya adalah 69 % Al - 28 996 Si - 2.5 % Mg dan terdapat unsur Fe dan Ni yangjumlahnya kurang dari 1%. Sedangkan Target mempunyai fasa a-A1203 yang dianalisa deNgan menggunakan XRD. Pada pelaksanaan Pelapisan dibuat tiga jenis ketebalan yaitu: 3100 A° , 5600 A° dan 8550 A°. Mengingat pengukuran ketebalan pada saat pelapisan kurang memuaskan, dilakukan uji ketebalan dengan menggunakan ellipsometer dan perhitungan hasil uji spectrophotometer. Dilakukan proses anil sampai temperatur 12003 C terhadap sampel hasil pelapisan tujuannya untuk mendapatkan Alumina kristal [9]. Secara visual, morfologi permukaan pada sampel baik sebelum pelapisan rnaupun setelah pelapisan dapat dilihat dengan menggunakan foto optik dan SEM. Pengujian dengan XRD terhadap hasil pelapisan baik sebelum proses anil maupun sesudah dilakukan anil tidak menunjukkan sistem krisialin, hal ini diperkuat dengan hasil analisa SEM. Hasil Kekerasan (mikro hardness) menunjukkan bahwa hasil pelapisan lebih keras dibandingkan substrat sebelum dilapisi, selain itu makin tebal lapisan nilai kekerasan makin bertambah."

"Telah dibuat kapasitor lapisan tipis dengan ketebalan bervariasi antara 3000 - 10.000 A. Pembuatan dilakukan dalam ruang vakum dengan metoda termal evaporasi. Lapisan Aluminium terlebih dahulu didepositkan pada substrat kaca sebagai elektroda bawah, kemudian dengan lapisan tipis Silikon monoksida sebagai bahan dielektrik, dan dilapisi lagi dengan Aluminium sebagai elektroda atas, sehingga terbentuk struktur kapasitor Al-SiO-Al. Karakterisasi dilakukan terhadap kapasitansi sehingga diperoleh konstanta dielektrik er = 6,2 + 0,4 , dan faktor disipasi sebesar 0,07% pada 1 kHz, Berta nilai kuat dielektrik dari 0,14 - 0,36 10° V cm-4. Harga kuat dielektrik terjadi penurunan dari harga standart, Ed = 1 3 10¢ V hal ini diperkirakan akibat impurity gas residu yang terjebak maupun yang teroksidasi sehingga terbentuk lapisan tipis campuran antara SiO dan SiO2. Peristiwa ini erat hubungannya dengan parameter deposisi seperti tekanan gas 02 dalam ruang vakum dan laju deposisi."

"(Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3 telah dihasilkan dari Ba0.5Sr0.5TiO3 (BST) yang doping Cu (x=1%, 2%, 4%) dengan metode Chemical Solution Deposition (CSD) dan proses spin coating (3000 rpm, selama 30 detik), di atas permukaan substrat Si (1 0 0) dan Pt/TiO2/SiO2/Si (2 0 0). Proses thermal hydrolisis, pyrolisis dilanjutkan dengan annealing pada suhu 8000C untuk pembentukan kristal. Hasil karakterisasi XRD dengan penghalusan GSAS, doping Cu (1%, 2% dan 4%) sudah masuk dalam BST menjadi kristal (Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3 dan menyebabkan perubahan jarak antar kisi dari kristal. Analisa struktur, mikrostruktur, morfologi dan topografi lapisan (Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3 berpengaruh terhadap hasil karakterisasi sifat listrik (polarisasi dan konstanta dielektrik). Polarisasi (spontan dan remanen) untuk BST murni lebih besar dibandingkan dengan BST yang di-doping Cu, tetapi doping Cu memperkecil medan koersif lapisan. Penggunaan substrat Pt/TiO2/SiO2/Si untuk penumbuhan lapisan (Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3, dapat memperkecil medan koersif dibandingkan dengan substrat Si. Telah dihasilkan konstan dielektrik dari lapisan (Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3 sebesar 900. Karakterisitik dielektrik dan medan koersif yang rendah dari penumbuhan lapisan BST diatas permukaan substrat, sangat baik untuk switching pada aplikasi memori ferroelektrik.

---

(Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3 fabricated from Ba0.5Sr0.5TiO3 (BST) with doping Cu (x=1%, 2%, 4%) used Chemical Solution Deposition (CSD) method and spin coating (3000 rpm, 30 second) process, on substrate Si (1 0 0) and Pt/TiO2/SiO2/Si (2 0 0). The Thermal process, hydrolisis, pyrolisis and annealing at temperature 8000C for crystallization. Characterization used XRD with refinement GSAS, doping Cu (1%, 2% dan 4%) doped in BST became crystal (Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3 and changed lattice parameter of crystal. The structure, microstructure, morphology and topography of film (Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3 were analyzed and correlated to electronic properties of film (Polarization and Dielectric). The undoped BST had more high polarization (spontant and remanent) than BST with doping Cu, but doping Cu made decrease coersive field of film. The used substrate Pt/TiO2/SiO2/Si for growthing of film (Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3, could more decrease coersive field than used substrate Si. The dielectric constant of film (Ba0.5Sr0.5)1-xCuxTiO3 are 900. The dielectric properties, low coersive field of growth BST films on substrate propose for utilization in switching ferroelectric memory."

"ABSTRAKTelah dilakukan pembuatan lapisan tipis Barium Zirkonium Titanat denganmenggunakan metode CSD (Chemical Solution Deposition) pada substrat Pt.Perbandingan komposisi Zr : Ti, temperatur annealing, tebalnya lapisan, danwaktu penahanan temperatur annealing menjadi variabel untuk mendapatkan filmtipis BZT yang terbaik. BZT dengan variasi perbandingan Zr : Ti sebesar 0,1 : 0,9,temperatur annealing 800°C, dan jumlah lapisan sebanyak 5 lapis didapatkansebagai variabel terbaik. Variabel BZT terbaik digunakan sebgai variabel untukpendopingan dengan Indium, kemudian hasilnya dianalisa dan diperhitungkansecara teoritik polarisasi spontan dari BZT yang didoping dengan Indium yangnilainya sebesar 22.93 μC/cm

---

AbstractExperimental study on making of Barium Zirconium Titanate thin films using theCSD (Chemical Soulution Deposition) method on Pt substrate is reported. Theratio between Zr : Ti, annealing termperature, film thickness, and annealingtemperature holding time are the variable to achieve best BZT thin films. BZTwith Zr : Ti ratio 0,1 : 0,9, annealing temperature 800°C, and layer number 5 arethe best result acquired. The best BZT result is used as variable for doping withIndium, then the result will be analyzed and calculated the spontaneouspolarization teoritically from BZT doped by Indium and the spontaneouspolarization is 22.93 μC/cm2.;"

"Front rail adalah komponen penting pada zona benturan yang dapat menyerap energi kinetic saat terjadi tabrakan dari arah depan sekitar 45%. Front rail didesain untuk hancur/remuk saat terjadi tabrakan, dengan menyerap energi kinetik dengan deformasi plastis untuk mengurangi dampak yang diterima oleh penumpang. Umumnya front rail terbuat dari baja ringan berstruktur tipis yang dapat menyerap energi tumbukan kinetik dengan progressive buckling sehingga mengurangi dampak kepada penumpang sekaligus melindungi kompartmen kendaraan. Crush initiators digunakan pada front rail untuk meminimalisir gaya kejut tumbukan maksimum pada saat awal tumbukan, gaya kejut ini berdampak pada penumpang dapat terlontar dari kendaraan. Maka dari itu penelitian ini bertujuan untuk mengetahui pengaruh jumlah dan dimensi crush initiators pada tabung berstruktur tipis pada kendaraan. Analisis menggunakan eksperimen quasi-statik dan pendekatan numerik menggunakan software Ansys/Lsdyna. Didapatkan hasil yang hampir sama antara eksperimen dengan numerik dengan rata-rata error sebesar 9,81%. Penggunaan Crush initiators cukup signifikan pada material SS304 yaitu terjadi penurunan gaya tumbukan maksimum (Fmax) mencapai 42,78% dan peningkatan efisiensi tumbukan mencapai 69,97%.

---

Front rail columns are the main component of the vehicle crumple zone that absorbs approximately 45% of kinetic energy at the moment of a frontal collision. During the collision, the front rail as expected absorbs kinetic energy to plastic deformation to reduce the effect on passengers. Generally, front rail front rails are made of mild steel thin-walled structure that absorbs kinetic energy to progressive buckling, so the passengers and compartments of the vehicle are safe. Crush initiators are used to improve crushing force efficiency and reduce the peak crushing force of vehicle collision. This research aimed to determine the effect of numbers and diameter of crush initiators on the thin-walled structure which is applied to the front rail of the vehicle. Analysis was conducted by comparing experimental and finite element analysis methods, the errors are quite low approximately 9,81%. We use software Ansys/Lsdyna for the finite element analysis method in this research. The results show quite significant for SS 304 material, there was a decrease in peak crushing force reach 42,78% and an increase in crushing force efficiency reach 69,97%. "

"Film TiO2 disamping bersifat sebagai fotokatalis juga mempunyai sifat ampitilik, yaitu menjadi superhidrofilik bila disinari UV dan kmbali menjadi hidrofob bila sinar UV tidak ada. Pada permukaan superhidrohlik air cenderung menyebar rata pada permukaan bahan dari pada membentuk partikel-partikel berupa butiran. Film TiO2 di permukaan kaca saat disinari cahaya UV akan menghasilkan pasangan electron-hole (e? dan h", elektron-Iubang positif). Lubang positif berinteraksi dengan air atau ion OH' menghasilkan radikal hidroksil (°OH). Radikal hidroksil ini merupakan spesies yang sangat reaktif menyerang molekul-molekul organik dan dapat mendegradaslnya menjadi CO2 dan H20. Kotoran berminyak yang menempel pada permukaan fotokatalis akan menghambat molekul air belinteraksi dengan hole dari TiO2, pada kasus ini, radikal hidroksil tidak terbentuk. Pada penelitian ini, kaca digunakan sebagai bahan penyangga TiO2 dan film kataiis di permukaan kaca ini digunakan untuk mengevaiuasi reaksi fotodegradasi asam cleat' yang mempakan asam lemak tak jenuh dan asam palmitat sebagai asam lemak jenuh dari mlnyak kelapa sawit. Pmses peiapisan dilakukan melalui metoda sol-gel. Jumlah pelapisan yang dilakukan adalah 1x, 3x, 5x, 7x dan 9x. Pelapisan yang masih transparan adalah sampal pelapisan ke 'lx dan hasil degradasi yang paling optimal diperoleh pada pel plsan ke 5x. Struktur kristal dan morfologi permukaan film katalis dikaralcterisasi dengan XRD, SEM/EDAX dan hidrofilisitas film katalis dlanalisis dengan Confact Anglemeter. n-Heksana digunakan sebagai pelarut dan iradiasi UV dilakukan untuk 0, 1, 2, 3, 4 dan 6 jam. Untuk mengevaluasi perubahan pada asam lemak, produk fotodegradasi dianalisis dengan alat UV-Vis, GC-MS dan in~si!u FFIR yang digabung dengan fotoreaktor. Produk intermediet yang diperoleh dari fotodegradasi asam palmitat adalah asam pentadekanoat, asam mirisiat, pentadekanal, asam Iaurat, heptanol dan heksanol. Sementara itu produk intermediet yang diperoleh dari fotodegradasi asam cleat adalah 9-oktadekenal, nonanal, oktanal, asam 9-oksononanoat, asam oktanoat, asam heptanoat dan asam heksanoat.TiO2 thin tilm coating on glass surface has photocatalyst and amphiphylic characteristics, that becomings superhydrophilic when it is illuminated by UV radiation and becomings hydrophobic again when UV ray is not existed. Water tends to spread rather than forming droplets on superhydrophilic surface. Glass coated with TiO2 thin layers when illuminated with UV ray will produce electron-hole pairs. Positive holes will interact with water or ion OH' to produce hydroxyl radicals ( 'OH). This hydroxyl radicals are very reactive species that attact organic molecules to become CO2 and HZO. Oily stains that covered a photocatalyst surface, would prevent water molecules to interact with the TiO2 holes, In this case hydroxyl radicals would not be produced. ln this research, glass was applied to support `l'iO2 thin layers and was used to evaluate the photodegradation reactions of oleic acid which ls unsaturated fatty acid and palmitic acid which is saturated fatty acid from palm oil. ln this studies, the coating process was conducted using sol-gel method. The coating process was done tx, 3x, 5x, 7x and 9x. The 7x coatings showed a still transparent surface but the optimal photodegradation was obtained on 5x coatings. The crystal structure and the surface morphology were characterized by XRD, SEMIEDAX and the glass surface hydrophiticity was analyzed by Contact Anglemeter. n-Hexane was used as solvent and the UV irradiation was conducted for the duration of 0, 1, 2, 3, 4, and 6 hours. To evaluate the transformations of those fatty acids, photodegradation products were analyzed by means of UV-VIS, GC~MS and in-situ FUR joined on-line with the photoreactor. The intemtediate products obtained from palmitic acid were pentadecanoic acid, myristic acid, pentadecanal, lauric acid, hepthanot and hexanol. While the intermediate photodegradation products of oleic acid were 9-octadecenal, nonanal, octanal, 9-oxononanoic acid, octanoic acid, heptanoic acid and hexanoic acid."