Permasalahan limbah cair perkantoran merupakan masalah yang mengkhawatirkan, terutama di wilayah yang memiliki kegiatan perindustrian dan perkantoran yang sibuk di perkotaan besar seperti Jakarta. Hal ini diperkuat dengan fakta bahwa sebagian besar kota-kota besar di Indonesia juga belum memiliki sarana pengelolaan air limbah domestik yang mampu mengelola seluruh limbahnya dengan baik, sedangkan kebutuhan air bersih semakin meningkat sejalan dengan pertumbuhan penduduk dan peningkatan taraf hidup yang lebih baik. Penelitian ini akan membahas suatu metode pengolahan air limbah yang lebih murah dan sederhana, yaitu dengan metode glow discharge dengan menggunakan dua elektroda bertegangan tinggi. Selain itu dibahas pula reaksi kimia plasma dan pembentukkan beberapa senyawa yang aktif secara kimia, seperti H2O2, O, OH, H O3, N2, O2-, O-, O2, dll, yang diproduksi dalam fenomena pelepasan listrik (electrical discharge). Sebagian besar senyawa tersebut merupakan oksidator yang lebih kuat daripada ozon sehingga pengolahan air dengan metode pelepasan listrik secara langsung dapat menjadi sarana untuk pemanfaatan senyawa ini selain pemanfaatan ozon dalam reaksi oksidasi. Tinjauan teknis dalam metode ini akan dibahas dalam tulisan. Secara khusus, akan digunakan suatu sumber arus searah yang akan ditingkatkan level tegangannya hingga mencapai suatu tegangan yang optimal dalam pembentukan lucutan pijar (glow discharge), dengan memanfaatkan rangkaian Zero-Voltage Switching dan transformator flyback sebagai komponen penaik tegangan arus searah. Hasil dari percobaan pembangkitan plasma menunjukan adanya suatu lucutan bertegangan tinggi yang ditimbulkan dari elektroda tembaga yang selanjutnya dapat diaplikasikan sebagai sumber kontak langsung terhadap reaksi oksidasi di dalam reaktor pengolahan air.
The problem of wastewater is a worrying problem, especially in areas that have busy industrial and office activities in large cities such as Jakarta. This is reinforced by the fact that most major cities in Indonesia also do not have domestic wastewater management facilities that are able to manage all of their waste properly, while the need for clean water is increasing in line with population growth and improved living standards. This study will discuss a cheaper and simpler method of wastewater treatment, namely the glow discharge method using two high-voltage electrodes. In addition, plasma chemistry reactions are discussed and the formation of several chemically active compounds, such as H2O2, O, OH, HO3, N2, O2-, O-, O2, etc., which are produced in the phenomenon of electrical discharge. Most of these compounds are oxidizers that are stronger than ozone so that water treatment with a direct method of electricity release can be a means of utilizing these compounds in addition to the use of ozone in oxidation reactions. The technical review in this method will be discussed. In particular, a direct current source will be used which will increase its voltage level to achieve an optimal voltage in the formation of glow discharge, by utilizing a Zero-Voltage Switching and flyback transformer as a direct current voltage enhancing component. The results of the plasma generation experiments show that there is a high voltage discharge generated from copper electrodes which can then be applied as a direct source of contact with the oxidation reaction in the water treatment reactor.
"
Hasil penelitian menunjukkan bahwa sistem pelapisan dengan metode plasma sputtering telah berhasil dibangun. Dalam waktu 7,5 menit, tabung vakum dapat mencapai tekanan terendah sebesar 1887 mikron. Plasma mulai tampak pada tabung vakum saat tekanan 37500 mikron dengan tegangan sebesar 12500 Volt. Dengan tegangan 2500 Volt, plasma mulai tampak pada tekanan 19827 mikron. Glow discharge plasma dapat terjadi pada tekanan 4082 mikron. Meskipun endapan tembaga hasil sputtering tidak ditemukan pada substrat, endapan ditemukan pada besi anoda. Nilai hambatan pada kaca preparat sebelum dan sesudah sputtering adalah OL (overload), sedangkan nilai hambatan pada besi anoda berubah dari 0,3 Ohm menjadi 1,8 Ohm, menunjukkan adanya endapan pada besi anoda.